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과제번호 S2558081
과제명 GaN(질화갈륨) Wafer 제조용 화학 기계 연마(CMP) 공정 최적화 및 CMP Slurry 개발
사업명 제품공정개선기술개발사업
공고명 2017년도 제품공정개선 기술개발사업 시행계획 공고
세부공고명 2017년 제4차 제품공정개선 기술개발사업(공정개선)
주관기관명 (주)루미스탈
관리기관명 경기지방중소벤처기업청
전문기관명 중소기업기술정보진흥원
정부출연금 49,930,000
과제상태 성공
산업기술분류 화학 >> 세라믹재료 >> 단결정
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