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| 과제번호 | S1054476 |
|---|---|
| 과제명 | Plasma Electrolytic Oxidation 공정을 이용한 SiP용 기판 소재 개발 |
| 사업명 | 중소기업기술혁신개발사업 |
| 공고명 | 2008년도 중소기업기술혁신개발사업 하반기 지원계획 공고 (창업기업 기술개발과제) |
| 세부공고명 | 창업기업기술개발과제 |
| 주관기관명 | 코아셈(주) |
| 관리기관명 | 충북지방중소벤처기업청 |
| 전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
| 정부출연금 | 95,000,000 |
| 과제상태 | 성공 |
| 산업기술분류 | 전기ㆍ전자 >> 반도체소자및 시스템 >> 기타 반도체 소자 |
30141 세종특별자치시 집현중앙로 79, 중소기업기술정보진흥원(TIPA)
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