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과제번호 C0330116
과제명 반도체 공정에서 발생하는 복합 오염물질 제거용 hybrid형 후처리 시스템 소형화 개발
사업명 첫걸음기술개발사업
공고명 2015년도 산학연협력 기술개발사업(일반형) 첫걸음R&D 시행 공고
세부공고명 2015년도 산학연협력 기술개발사업(일반 첫걸음-동일지역) 2차
주관기관명 경희대학교산학협력단
관리기관명 경기지방중소벤처기업청
전문기관명 한국산학연협회
정부출연금 43,393,000
과제상태 성공
산업기술분류 기계ㆍ소재 >> 에너지/환경 기계시스템 >> 대기오염 방지 설비
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