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| 과제번호 | S3019672 |
|---|---|
| 과제명 | 반도체용 포토 공정재료 개발; 저온경화형 SOC, KrF용 고두께 PR, ArF용 Immersion Topcoater |
| 사업명 | 고경력연구인력채용지원(참여기업접수용) |
| 공고명 | 2020년도 2차 중소기업 연구인력지원사업(채용, 고경력) 공고 |
| 세부공고명 | 2020년 고경력 연구인력 채용지원사업 2차 접수 |
| 주관기관명 | 주식회사오라스 |
| 관리기관명 | 한국산업기술진흥협회 |
| 전문기관명 | 한국산업기술진흥협회 |
| 정부출연금 | 90,000,000 |
| 과제상태 | 완료 |
| 산업기술분류 | 화학 >> 고분자재료 >> 전기ㆍ전자정보용 소재기술 |
30141 세종특별자치시 집현중앙로 79, 중소기업기술정보진흥원(TIPA)
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