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| 과제번호 | S2342874 |
|---|---|
| 과제명 | 20nm 이하 300mm 및 450mm 웨이퍼 가공용 Nitride, Oxide 및 Poly Etch Back 공정장비 개발 |
| 사업명 | WC300 R&D |
| 공고명 | (단계보고서 접수)WC300 단계보고서 및 차단계 사업계획서 접수 |
| 세부공고명 | WC300 단계보고서 및 차단계 사업계획서 접수 |
| 주관기관명 | 피에스케이홀딩스(주) |
| 관리기관명 | 한국산업기술진흥원 |
| 전문기관명 | 한국산업기술진흥원 |
| 정부출연금 | 3,549,000,000 |
| 과제상태 | 과제진행중 |
| 산업기술분류 | 전기ㆍ전자 >> 반도체장비 >> 세정장비 |
30141 세종특별자치시 집현중앙로 79, 중소기업기술정보진흥원(TIPA)
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